高熵合金旋轉靶材及其冷噴涂的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111433186.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114086142A 公開（公告）日 2022-02-25
申請公布號 CN114086142A 申請公布日 2022-02-25
分類號 C23C14/35（2006.01）I;C23C24/04（2006.01）I;B22F9/04（2006.01）I;B22F1/142（2022.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐從康;賀濤;馬賽;陳簫簫 申請（專利權）人 亞芯半導體材料（江蘇）有限公司
代理機構 常州市權航專利代理有限公司 代理人 趙慧
地址 213000江蘇省常州市天寧區(qū)青洋北路143號創(chuàng)業(yè)服務中心內
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及高熵合金靶材制備技術，尤其是一種高熵合金旋轉靶材及其冷噴涂的制備方法。其中所述采用冷噴涂制備高熵合金旋轉靶材的方法，包括以下步驟：步驟1，對金屬粉末進行球磨預合金化，得到預合金化粉末；步驟2，對所述預合金化粉末在真空下進行退火后，研磨、過篩，制得預處理粉末；步驟3，對基材進行預處理，得到預處理基材；步驟4，將所述預處理粉末冷噴涂到所述預處理基材的表面。本發(fā)明的是冷噴涂工藝，制備的靶材純度高、含氧量低。冷噴涂時，顆粒的速度大，固態(tài)顆粒高速到達基體表面產生塑性變形，后續(xù)顆粒又不斷沖擊前期顆粒使得靶材不斷致密化，故靶材的密度高。