一種精密真空鍍膜系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022197303.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN213327812U | 公開（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213327812U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號(hào) | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 陳簫簫 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 亞芯半導(dǎo)體材料（江蘇）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 常州市權(quán)航專利代理有限公司 | 代理人 | 趙慧 |
| 地址 | 213000江蘇省常州市天寧區(qū)青洋北路143號(hào)創(chuàng)業(yè)服務(wù)中心內(nèi) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型具體涉及一種精密真空鍍膜系統(tǒng)，本精密真空鍍膜系統(tǒng)包括：鍍膜環(huán)境控制裝置，用于輸出氬氣；和鍍膜裝置，連接所述鍍膜環(huán)境控制裝置，用于真空中產(chǎn)生電場(chǎng)電離氬氣產(chǎn)生氬離子轟擊靶材表面，使靶材發(fā)生濺射；傳動(dòng)裝置，用于接收濺射出的靶材以對(duì)物料進(jìn)行鍍膜，并夾持物料轉(zhuǎn)動(dòng)，以使濺射出的靶材覆蓋物料表面；以及監(jiān)測(cè)控制裝置，連接所述鍍膜裝置，用于采集鍍膜裝置工作參數(shù)，并根據(jù)鍍膜裝置工作參數(shù)控制鍍膜環(huán)境控制裝置的氬氣輸出量；本實(shí)用新型通過電場(chǎng)電離氬氣產(chǎn)生氬離子轟擊靶材表面，使靶材濺射至物料表面進(jìn)行鍍膜，實(shí)現(xiàn)磁控濺射為核心的光電鍍膜，能夠制備特殊光電特性的薄膜產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)可批量化制造。?? |
