大尺寸鉬濺射靶材及采用化學(xué)氣相沉積法的制備工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111621882.X 申請日 -
公開（公告）號 CN114318256A 公開（公告）日 2022-04-12
申請公布號 CN114318256A 申請公布日 2022-04-12
分類號 C23C14/34（2006.01）I;C23C16/14（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐從康;馬賽;賀濤;陳簫簫 申請（專利權(quán)）人 亞芯半導(dǎo)體材料（江蘇）有限公司
代理機構(gòu) 常州市權(quán)航專利代理有限公司 代理人 周潔
地址 213000江蘇省常州市天寧區(qū)青洋北路143號創(chuàng)業(yè)服務(wù)中心內(nèi)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于鉬濺射靶材技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種大尺寸鉬濺射靶材及采用化學(xué)氣相沉積法的制備工藝。所述大尺寸鉬濺射靶材的制備方法，包括以下步驟：將鉬與三氟化氮在高溫條件下反應(yīng)，制備出粗品六氟化鉬；對所述粗品六氟化鉬經(jīng)真空蒸餾法和吸附法提純后，得到高純度六氟化鉬；采用化學(xué)氣相沉積法，用還原氣體將高純度六氟化鉬還原成金屬鉬；將金屬鉬沉積到基體材料上，一步法生產(chǎn)出大尺寸鉬濺射靶材。本發(fā)明制作的超高純鉬濺射靶材以高純?nèi)⒏呒冦f粉和還原氣體（氫氣）為原料，在化學(xué)氣相沉積設(shè)備中一步完成，反應(yīng)過程為連續(xù)氣相反應(yīng)，產(chǎn)品各向一致性和批次間一致性遠優(yōu)于傳統(tǒng)鉬靶材。