一種燭式除霧器的壓力清洗方法與系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201811469249.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN109433703A | 公開(公告)日 | 2019-03-08 |
申請公布號 | CN109433703A | 申請公布日 | 2019-03-08 |
分類號 | B08B3/02(2006.01)I; B08B3/08(2006.01)I; B08B13/00(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 尹繼國; 于洋; 胡軍; 羅斌 | 申請(專利權(quán))人 | 宜賓海翔化工有限責(zé)任公司 |
代理機構(gòu) | 成都天嘉專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 史姣姣 |
地址 | 644000 四川省宜賓市翠屏區(qū)南廣鎮(zhèn)鹽坪壩3棟 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種燭式除霧器的壓力清洗方法與系統(tǒng),屬于硫酸生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。通過堿儲罐、水儲罐及清洗裝置等設(shè)置,通入清水后,在0.05~0.1Mpa的液壓下,進行初步的沖洗;其次,通入堿液和清水,經(jīng)其濃度調(diào)和后,密閉浸泡,排出;最后,再通入清水,使得清洗裝置內(nèi)形成0.05~0.1Mpa的液壓,進行最后的沖洗。排污過程中,將脫落的酸泥等雜質(zhì)沖出,待排污口處pH值為中性后,完成清洗;本清洗方法及系統(tǒng)能有效防止?fàn)T式除霧器的損傷問題發(fā)生,且清洗徹底,進而提高燭式除霧器的除霧質(zhì)量,滿足硫酸生產(chǎn)的需求。 |
