一種用于真空鍍膜機的真空室
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921210194.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210367888U | 公開(公告)日 | 2020-04-21 |
申請公布號 | CN210367888U | 申請公布日 | 2020-04-21 |
分類號 | C23C14/34;C23C14/56 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 胡向忠;陳培專;李仁龍;魏昌華;高翔 | 申請(專利權)人 | 綿陽皓華光電科技有限公司 |
代理機構 | 北京遠大卓悅知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 綿陽金能移動能源有限公司 |
地址 | 621000 四川省綿陽市涪城區(qū)鳳凰中路8號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種用于真空鍍膜機的真空室,包括:真空腔體;波浪形遮擋板,其可拆卸連接在真空腔體的內(nèi)壁上;主傳動輥,其設置在真空腔體的下部居中的位置;所述真空腔體的上部左右對稱設置放卷輥和收卷輥;三個鍍膜靶材,其等距離地放置在主傳動輥的外圓周圍,且位于主傳動輥的下方;本實用新型將真空腔體內(nèi)部的遮擋板設置為波浪形遮擋板,其有效增加了擋板的整體面積,讓擋板能更好、更多的吸附靶材材料,減少保養(yǎng)次數(shù),從而增加設備有效生產(chǎn)時間。 |
