一種磁控濺射設備中的鍍膜結構

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921086612.1 申請日 -
公開（公告）號 CN210560705U 公開（公告）日 2020-05-19
申請公布號 CN210560705U 申請公布日 2020-05-19
分類號 C23C14/35;C23C14/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 夏熙;陳培專;李仁龍;魏昌華;高翔 申請（專利權）人 綿陽皓華光電科技有限公司
代理機構 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 代理人 綿陽金能移動能源有限公司
地址 621000 四川省綿陽市涪城區(qū)鳳凰中路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種磁控濺射設備中的鍍膜結構，包括：一腔板，其內開設有一半密封U型腔，半密封U型腔內均布設置有多個第一隔板，兩兩第一隔板之間構成一獨立的鍍膜空間，鍍膜空間的一側設置有一安裝板，其上開設有兩第一固定孔，腔板上開設的有兩與第一固定孔相配合的第二固定孔，第一固定孔與第二固定孔之間設置有鍍膜靶材；一門板，其上可轉動設置有一鍍膜輥，鍍膜輥的周向上套設有一待鍍膜基板，門板上還固定設置有一半圓型架，半圓型架與所述鍍膜輥間隙配合，半圓型架上均布設置有多個與第一隔板相配合的第二隔板；采用本實用新型的鍍膜結構，能夠提高各鍍膜空間內的氣密性，防止竄氣，減小摩擦阻力，提高鍍膜質量與效果。