一種平面靶材

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201920408498.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN209741263U 公開(kāi)(公告)日 2019-12-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN209741263U 申請(qǐng)公布日 2019-12-06
分類號(hào) C23C14/35(2006.01) 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 沈登濤; 張佳衲; 曾一鑫 申請(qǐng)(專利權(quán))人 信元光電有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 廖苑濱
地址 516600 廣東省汕尾市城區(qū)信利工業(yè)城26棟4樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種平面靶材,包括背板和綁定于所述背板上的靶材組,所述背板設(shè)有位于中部的凸起部和兩側(cè)的平坦部,所述靶材組包括設(shè)于所述凸起部的第一子靶材和設(shè)于所述平坦部上的第二子靶材;所述第一子靶材和第二子靶材的上表面保持平齊。本實(shí)用新型提供的平面靶材通過(guò)設(shè)置具有凸起部和平坦部的背板,從而在使得第一子靶材和第二子靶材的上表面平齊的情況下,第一子靶材的厚度小于第二子靶材的厚度,由于位于兩側(cè)的第二子靶材的消耗快,中間的第一子靶材消耗慢,因此可有有效保證第一子靶材和第二子靶材消耗完畢的時(shí)間的匹配,具有較好的一致性,從而避免了靶材浪費(fèi),降低了生產(chǎn)成本。