一種硅片檢測裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202121150508.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN215297174U | 公開（公告）日 | 2021-12-24 |
| 申請公布號(hào) | CN215297174U | 申請公布日 | 2021-12-24 |
| 分類號(hào) | G01N21/95（2006.01）I;G01N21/94（2006.01）I;G01N21/01（2006.01）I | 分類 | 測量；測試; |
| 發(fā)明人 | 張強(qiáng);繆海波 | 申請（專利權(quán)）人 | 蘇州協(xié)鑫光伏科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 高艷敏 |
| 地址 | 215253江蘇省蘇州市蘇州高新區(qū)五臺(tái)山路169號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型所述的一種硅片檢測裝置，包括傳送帶、崩邊光源、線掃相機(jī)、若干平面鏡和臟污光源，所述硅片平鋪于轉(zhuǎn)動(dòng)的傳送帶上，所述硅片包括兩條垂直于傳送帶方向的垂直側(cè)邊和兩條平行于傳送帶方向的平行側(cè)邊，所述崩邊光源照射于硅片照射于一條垂直側(cè)邊，并將垂直側(cè)邊表面情況通過平面鏡反饋于線掃相機(jī)，所述污光源照射于硅片的一條平行側(cè)邊和硅片一個(gè)表面，并將兩個(gè)位置的表面狀況通過平面鏡反饋于所述線掃相機(jī)，上述系統(tǒng)共設(shè)置兩個(gè)，用于測試硅片的四個(gè)側(cè)邊和上、下表面。本實(shí)用新型的一個(gè)系統(tǒng)中通過一個(gè)相機(jī)兩次成像解決了側(cè)邊崩邊與表面臟污的檢測，在設(shè)備硬件裝置節(jié)省了費(fèi)用，通過結(jié)構(gòu)優(yōu)化更好的檢測硅片的側(cè)邊崩邊。 |
