一種硅片粉塵誤判為線(xiàn)痕的過(guò)濾系統(tǒng)及過(guò)濾方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110482238.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113232179A 公開(kāi)（公告）日 2021-08-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN113232179A 申請(qǐng)公布日 2021-08-10
分類(lèi)號(hào) B28D5/04;B28D7/00;G01B11/22 分類(lèi) 加工水泥、黏土或石料;
發(fā)明人 吳亮亮 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 蘇州協(xié)鑫光伏科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京蘇高專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張弛
地址 215253 江蘇省蘇州市蘇州高新區(qū)五臺(tái)山路169號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)一種硅片粉塵誤判為線(xiàn)痕的過(guò)濾系統(tǒng)，包括激光檢測(cè)模塊、粉塵誤判過(guò)濾模塊，激光檢測(cè)模塊獲取檢測(cè)硅片至少兩個(gè)位置的線(xiàn)痕值，粉塵誤判過(guò)濾模塊用于將檢測(cè)硅片中線(xiàn)痕比率大于修正系數(shù)的最大線(xiàn)痕值過(guò)濾，輸出次大線(xiàn)痕值，線(xiàn)痕比率為檢測(cè)硅片的最大線(xiàn)痕值與次大線(xiàn)痕值的比值，所述修正系數(shù)為合格硅片最大線(xiàn)痕值上限加上灰塵直徑后與次大線(xiàn)痕值上限的比值。通過(guò)粉塵誤判過(guò)濾模塊對(duì)主要產(chǎn)生影響的灰塵等附著物疊加計(jì)算的線(xiàn)痕值進(jìn)行過(guò)濾，有效減少線(xiàn)痕值不良的誤判率，過(guò)濾過(guò)程自動(dòng)化程度高，過(guò)濾精度高，實(shí)用性強(qiáng)。