一種用于硅片清洗系統(tǒng)的純水加熱、補給系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120967298.9 申請日 -
公開（公告）號 CN215278867U 公開（公告）日 2021-12-24
申請公布號 CN215278867U 申請公布日 2021-12-24
分類號 B08B3/10（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 王福壽;吳旸 申請（專利權(quán)）人 蘇州協(xié)鑫光伏科技有限公司
代理機構(gòu) 南京蘇高專利商標事務(wù)所（普通合伙） 代理人 高艷敏
地址 215253江蘇省蘇州市蘇州高新區(qū)五臺山路169號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于硅片清洗系統(tǒng)的純水加熱、補給系統(tǒng)，自前端向后端依次包括中水換熱部分、空壓機換熱部分和自動加熱補給部分，所述中水換熱部分用于完成自純水站輸出的純水和中水之間的換熱；所述空壓機換熱部分用于中水換熱部分輸出的純水與空壓機之間的換熱；所述自動加熱補給部分用于將空壓機換熱部分輸出的純水加熱至目標溫度，最后將目標溫度純水輸出到硅片清洗系統(tǒng)中。本實用新型的純水加熱、補給系統(tǒng)是相對于硅片清洗系統(tǒng)獨立設(shè)置的集中加熱系統(tǒng)，具備獨立的集中供水泵浦及管路系統(tǒng)。與原有純水管路系統(tǒng)分開，加熱效率顯著提升，減少補水時對正常工作機臺的影響，同時縮短補水時間，能夠顯著提升產(chǎn)能。