一種陽(yáng)極結(jié)構(gòu)及鍍層裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202122263788.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN215440741U | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-01-07 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN215440741U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-01-07 |
分類(lèi)號(hào) | C25D17/12(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I | 分類(lèi) | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 高漩;沈明皓 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 成都奕成集成電路有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 成都極刻智慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張紅平 |
地址 | 610000四川省成都市高新區(qū)尚陽(yáng)路12號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)實(shí)施例提供的陽(yáng)極結(jié)構(gòu)及鍍層裝置,涉及電鍍技術(shù)領(lǐng)域。其中,在陽(yáng)極結(jié)構(gòu)中,第一陽(yáng)極部分的第一側(cè)面與第二側(cè)面之間的厚度不變,第二陽(yáng)極部分與第三陽(yáng)極部分的第一側(cè)面與第二側(cè)面之間的厚度沿遠(yuǎn)離第一陽(yáng)極部分的方向逐漸變小,上述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)與待鍍陰極正對(duì)時(shí),在陽(yáng)極結(jié)構(gòu)由中心向邊緣延伸的方向,陽(yáng)極結(jié)構(gòu)與待鍍陰極之間的距離逐漸增大,如此可以減弱陽(yáng)極結(jié)構(gòu)與待鍍陰極在邊緣區(qū)域的電場(chǎng)強(qiáng)度,使得陽(yáng)極與待鍍陰極在正對(duì)區(qū)域內(nèi)具有均一的電場(chǎng)分布,從而可以確保在電鍍時(shí)能在待鍍陰極的表面形成一厚度均勻的金屬鍍層。 |
