一種金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備的載盤支撐
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201010619354.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN102534560A | 公開(公告)日 | 2012-07-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102534560A | 申請(qǐng)公布日 | 2012-07-04 |
分類號(hào) | C23C16/458(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 李剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海永勝半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 201616 上海市松江區(qū)文俊路8號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積(MOCVD)設(shè)備中的一種載盤支撐裝置。它包括腔體底盤(1)、腔壁(2)、多層載盤支撐(3)、支撐墊塊(4)、支撐連接(5)、載盤(6)、加熱器(7),特征是多層載盤支撐(3)安裝在腔體底盤(1)上,通過放置在多層載盤支撐(3)上部的支撐墊塊(4)保證整個(gè)支撐面的平面度。多層載盤支撐(3)的每層均支撐受力,降低了對(duì)每層支撐的強(qiáng)度(厚度)的要求。工作過程中,腔體內(nèi)部從常溫到1000℃不斷來回變化的過程中,厚度較薄的載盤支撐產(chǎn)生的形變也較小,也保證了工作的穩(wěn)定性和安全性。而多層載盤支撐(3)也起到了隔熱作用,使其內(nèi)側(cè)加熱器的熱量不容易輻射到腔壁(2)上。 |
