一種有機發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200510101380.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN100590232C | 公開(公告)日 | 2010-02-17 |
申請公布號 | CN100590232C | 申請公布日 | 2010-02-17 |
分類號 | C25D1/00;C23C14/04 | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 魏志凌;高小平;趙錄軍;胡鵬程 | 申請(專利權(quán))人 | 昆山允升吉電子有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 喻尚威 |
地址 | 215437江蘇省昆山市巴城紅楊路 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種有機發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法,依次有 以下步驟:芯模準備→芯模前處理→貼膜→曝光→顯影→除油→水洗,其特 征在于:還依次有以下后續(xù)步驟:活化/鈍化→水洗→電鑄掩膜→水洗→褪膜 →剝膜→絲網(wǎng)粘接→成品檢測→成品包裝。本發(fā)明采用電鑄技術(shù)可以制作厚 度在0.05mm以下的OLED蒸鍍用高精度掩膜,由于是基于應用電化學的電 沉積原理,通過在芯模上電沉積某一金屬或合金,因此掩膜板開孔均勻一致, 孔壁光滑無毛刺,無側(cè)向腐蝕,有利于發(fā)光材料完全轉(zhuǎn)移到ITO表面,顯著 提高制品精度,開孔公差達到±0.005mm,幅面為370mm×470mm的掩膜板 的孔間位置公差僅為±0.008mm。 |
