一種有機(jī)發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200510101380.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN100590232C 公開(kāi)（公告）日 2010-02-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN100590232C 申請(qǐng)公布日 2010-02-17
分類號(hào) C25D1/00;C23C14/04 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 魏志凌;高小平;趙錄軍;胡鵬程 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 昆山允升吉電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳新創(chuàng)友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 喻尚威
地址 215437江蘇省昆山市巴城紅楊路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種有機(jī)發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法，依次有 以下步驟：芯模準(zhǔn)備→芯模前處理→貼膜→曝光→顯影→除油→水洗，其特 征在于：還依次有以下后續(xù)步驟：活化/鈍化→水洗→電鑄掩膜→水洗→褪膜 →剝膜→絲網(wǎng)粘接→成品檢測(cè)→成品包裝。本發(fā)明采用電鑄技術(shù)可以制作厚 度在0.05mm以下的OLED蒸鍍用高精度掩膜，由于是基于應(yīng)用電化學(xué)的電 沉積原理，通過(guò)在芯模上電沉積某一金屬或合金，因此掩膜板開(kāi)孔均勻一致， 孔壁光滑無(wú)毛刺，無(wú)側(cè)向腐蝕，有利于發(fā)光材料完全轉(zhuǎn)移到ITO表面，顯著 提高制品精度，開(kāi)孔公差達(dá)到±0.005mm，幅面為370mm×470mm的掩膜板 的孔間位置公差僅為±0.008mm。