一種有機發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜的電鑄制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200510101380.9 申請日 -
公開（公告）號 CN1804138A 公開（公告）日 2010-02-17
申請公布號 CN1804138A 申請公布日 2010-02-17
分類號 C25D1/00;C23C14/04 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 魏志凌;高小平;趙錄軍;胡鵬程 申請（專利權(quán)）人 昆山允升吉電子有限公司
代理機構(gòu) 深圳創(chuàng)友專利商標代理有限公司 代理人 喻尚威
地址 518103廣東省深圳市寶安區(qū)福永街道橋頭社區(qū)富橋三區(qū)A4棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種有機發(fā)光顯示器蒸鍍用掩膜 的電鑄制作方法，依次有以下步驟：芯模準備→芯模前處理→ 貼膜→曝光→顯影→除油→水洗，其特征在于：還依次有以下 后續(xù)步驟：活化/鈍化→水洗→電鑄掩膜→水洗→褪膜→剝膜→ 絲網(wǎng)粘接→成品檢測→成品包裝。本發(fā)明采用電鑄技術(shù)可以制 作厚度在0.05mm以下的OLED蒸鍍用高精度掩膜，由于是基 于應(yīng)用電化學(xué)的電沉積原理，通過在芯模上電沉積某一金屬或 合金，因此掩膜板開孔均勻一致，孔壁光滑無毛刺，無側(cè)向腐 蝕，有利于發(fā)光材料完全轉(zhuǎn)移到ITO表面，顯著提高制品精度， 開孔公差達到±0.005mm，幅面為370mm×470mm的掩膜板 的孔間位置公差僅為±0.008mm。