用于全固態(tài)鋰離子電池的超薄鋰負極膜的制備工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910518371.1 申請日 -
公開（公告）號 CN110137428A 公開（公告）日 2019-08-16
申請公布號 CN110137428A 申請公布日 2019-08-16
分類號 H01M4/04;H01M4/1391;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/35 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張淵君;董啟妍;劉志華;胡家漓;劉爽;秦天興 申請（專利權(quán)）人 新鄉(xiāng)芯蘊智能科技有限公司
代理機構(gòu) 昆明合眾智信知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 代理人 新鄉(xiāng)芯蘊智能科技有限公司
地址 453000 河南省新鄉(xiāng)市紅旗區(qū)新東產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)新東創(chuàng)業(yè)園9號B2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了本發(fā)明提供了一種用于全固態(tài)鋰離子電池的超薄鋰負極膜的制備工藝，包括如下步驟：在基片上通過磁控濺射方法沉積Cu3N薄膜，其中Cu3N薄膜的厚度為10?12nm；在Cu3N薄膜上通過磁控濺射方法沉積第一TiO2薄膜，其中第一TiO2薄膜的厚度為12?15nm；在第一TiO2薄膜上通過磁控濺射方法沉積Zn3N4薄膜，其中Zn3N4薄膜的厚度為10?12nm；在Zn3N4薄膜上通過磁控濺射方法沉積第一Li4Ti5O12薄膜，其中第一Li4Ti5O12薄膜的厚度為10?12nm；在第一Li4Ti5O12薄膜上通過磁控濺射方法沉積第二TiO2薄膜，其中第二TiO2薄膜的厚度為10?12nm；在第二TiO2薄膜上通過磁控濺射方法沉積Fe3N薄膜，其中Fe3N薄膜的厚度為7?9nm；在Fe3N薄膜上通過磁控濺射方法沉積Al2O3薄膜，其中Al2O3薄膜的厚度為7?9nm；以及在Al2O3薄膜上通過磁控濺射方法沉積第二Li4Ti5O12薄膜。