一種高硼摻雜P型襯底TVS器件外延片
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201821665467.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN208722885U | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-04-09 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN208722885U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-04-09 |
分類號(hào) | H01L29/06(2006.01)I; H01L29/861(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 朱軍; 楊敏紅; 單慧; 劉韻吉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 桑德斯微電子器件(南京)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京瑞弘專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 陳建和 |
地址 | 211113 江蘇省南京市江寧經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)緯七路 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種高硼摻雜P型襯底TVS器件的外延片,在TVS器件外延片的P++襯底上設(shè)有氧化層加多晶硅層作為外延片襯底背面的密封材料,氧化層為二氧化硅,在P++襯底材料上進(jìn)行熱氧化生成,二氧化硅層的厚度在0.1?1.5微米;在二氧化硅層表面設(shè)有多晶硅層,多晶硅的厚度在0.1?2.0微米。 |
