一種套刻誤差的測量計算方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111191680.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113917802A 公開（公告）日 2022-01-11
申請公布號 CN113917802A 申請公布日 2022-01-11
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 袁俊春;邵康鵬;陳海平;楊慎知;劉慧斌 申請（專利權）人 杭州廣立微電子股份有限公司
代理機構 江蘇坤象律師事務所 代理人 趙新民
地址 310012浙江省杭州市西湖區(qū)西斗門路3號天堂軟件園A幢15樓F1座
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種套刻誤差的測量計算方法，包括：按預置偏離量設計第一光罩和第二光罩，用于制成測試鏈；獲取N條對應不同的所述預置偏移量的測試鏈，N≥3；測量所述N條測試鏈的電性參數，以得到的電性參數與對應的所述預置偏移量作為一組參考數據；對所述參考數據進行數據分析，計算得到所述第一光罩和所述第二光罩的套刻誤差值?；陔妼W測量獲取套刻誤差值，易于實現且得到的結果更接近于真實的套刻誤差；便于對工藝進行實時監(jiān)控，有利于及時調整生產工藝，推進產品良品率持續(xù)提高。此外本發(fā)明的方法還能夠適用于在半導體芯片制作完成后進行重復測試，利于更好的進行工藝問題溯源。