一種套刻誤差的測量計算方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111191680.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113917802A 公開（公告）日 2022-01-11
申請公布號 CN113917802A 申請公布日 2022-01-11
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 袁俊春;邵康鵬;陳海平;楊慎知;劉慧斌 申請（專利權(quán)）人 杭州廣立微電子股份有限公司
代理機構(gòu) 江蘇坤象律師事務(wù)所 代理人 趙新民
地址 310012浙江省杭州市西湖區(qū)西斗門路3號天堂軟件園A幢15樓F1座
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種套刻誤差的測量計算方法，包括：按預(yù)置偏離量設(shè)計第一光罩和第二光罩，用于制成測試鏈；獲取N條對應(yīng)不同的所述預(yù)置偏移量的測試鏈，N≥3；測量所述N條測試鏈的電性參數(shù)，以得到的電性參數(shù)與對應(yīng)的所述預(yù)置偏移量作為一組參考數(shù)據(jù)；對所述參考數(shù)據(jù)進(jìn)行數(shù)據(jù)分析，計算得到所述第一光罩和所述第二光罩的套刻誤差值?；陔妼W(xué)測量獲取套刻誤差值，易于實現(xiàn)且得到的結(jié)果更接近于真實的套刻誤差；便于對工藝進(jìn)行實時監(jiān)控，有利于及時調(diào)整生產(chǎn)工藝，推進(jìn)產(chǎn)品良品率持續(xù)提高。此外本發(fā)明的方法還能夠適用于在半導(dǎo)體芯片制作完成后進(jìn)行重復(fù)測試，利于更好的進(jìn)行工藝問題溯源。