一種標定測量模塊相對電壓偏置誤差的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111055621.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113777471A | 公開(公告)日 | 2021-12-10 |
申請公布號 | CN113777471A | 申請公布日 | 2021-12-10 |
分類號 | G01R31/28(2006.01)I;G01R35/00(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 毛渲;鄭勇軍;楊靖;吳鑫;陳巍;成家柏 | 申請(專利權)人 | 杭州廣立微電子股份有限公司 |
代理機構 | 江蘇坤象律師事務所 | 代理人 | 趙新民 |
地址 | 310012浙江省杭州市西湖區(qū)西斗門路3號天堂軟件園A幢15樓F1座 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供標定測量模塊相對電壓偏差誤差方法,包括選擇固定電阻與四個測量模塊;固定電阻引出四端A、B、C、D;對任意兩個測量模塊進行標定包括測量模塊1在A端施加電流I,測量模塊2在B端施加電壓V;測量模塊3和測量模塊4量測C、D兩端的電勢V1、V2,得到固定電阻的阻值R1;測量模塊1在A端施加電壓V,測量模塊2在B端施加電流I;測量模塊3和測量模塊4量測C、D兩端的電勢V1’、V2’,得到固定電阻的阻值R2;平均計算得到真實電阻R;通過R1或R2與R的差值,得到測量模塊3和測量模塊4的相對電壓偏置誤差為ΔV。通過對測量模塊之間的相對電壓偏置誤差的標定,避免測量模塊的電壓偏置誤差對測試設備的測量精度產(chǎn)生較大影響。 |
