一種半導(dǎo)體光刻加工用噴膠設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110680133.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113376966A | 公開(公告)日 | 2021-09-10 |
申請公布號 | CN113376966A | 申請公布日 | 2021-09-10 |
分類號 | G03F7/16(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 羅兵甲 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳恩必德電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市眾元信科專利代理有限公司 | 代理人 | 劉瑩瑩 |
地址 | 518108廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道水田社區(qū)匯龍達(dá)工業(yè)園廠房C棟 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體光刻加工用噴膠設(shè)備,包括進(jìn)膠口和固定安裝在進(jìn)膠口底部的噴嘴管,所述噴嘴管的底部設(shè)有多個(gè)噴膠口,所述噴嘴管的內(nèi)部設(shè)有調(diào)節(jié)噴膠口數(shù)量的防堵密封件;所述防堵密封件的端部上方設(shè)有限位件,其下方通過連接件連接有輔助裝置;所述輔助裝置的側(cè)面設(shè)有處理晶圓外側(cè)多余噴膠的排料裝置,所述排料裝置的下方設(shè)有集料裝置,此半導(dǎo)體光刻加工用噴膠設(shè)備,通過防堵密封件和輔助裝置可以調(diào)節(jié)噴嘴管上噴膠口的數(shù)量,根據(jù)晶圓外徑大小進(jìn)行調(diào)節(jié),輔助裝置上的定位刮刀在定位的同時(shí)還能夠?qū)⒕A外側(cè)多余的噴膠移除,不僅提高了晶圓的表面的噴膠效率,還能避免晶圓在后續(xù)工序中出現(xiàn)邊緣曝光,有效的提高的晶圓的成品效率。 |
