一種含浸機構

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121686853.7 申請日 -
公開（公告）號 CN215744450U 公開（公告）日 2022-02-08
申請公布號 CN215744450U 申請公布日 2022-02-08
分類號 B05C3/09（2006.01）I;B05C13/02（2006.01）I;B05C11/115（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 張鑫 申請（專利權）人 江蘇瑞德磁性材料有限公司
代理機構 南京新慧恒誠知識產權代理有限公司 代理人 房鑫磊
地址 211700江蘇省淮安市盱眙經濟開發(fā)區(qū)玉蘭大道與金源路交叉口東北角
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種含浸機構，包括支撐板，支撐板的頂部設置有含浸槽，含浸槽的兩側上方對稱設置有兩個支板，在兩個支板上對稱設置有兩個升降裝置，在兩個升降裝置的頂部設置有蓋板，蓋板的頂部中心位置處設置有執(zhí)行軸豎直延伸至蓋板下方的伸縮裝置，在伸縮裝置的執(zhí)行軸末端設置有開口向下設置的卡框，卡框的底部開口內側對稱設置有卡板，在卡板上方的卡框內放置有盛有磁芯的網孔槽，在位于含浸槽正上方的蓋板上還設置有真空接口和壓力表，真空接口與外部真空設備連通。本實用新型能有效提高含浸槽與蓋板之間的密封性，保證了真空度繼而提高了含浸效果。