Ge光電探測器及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010718274.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111785791A | 公開(公告)日 | 2020-10-16 |
申請公布號 | CN111785791A | 申請公布日 | 2020-10-16 |
分類號 | H01L31/024(2014.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 方青;張馨丹;邵瑤;胡鶴鳴;顧苗苗;陳華;張志群;陳曉峰 | 申請(專利權(quán))人 | 哈爾濱眾達電子有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 昆明理工大學;國網(wǎng)上海能源互聯(lián)網(wǎng)研究院有限公司;哈爾濱眾達電子有限公司 |
地址 | 650000云南省昆明市一二一大街文昌路68號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種Ge光電探測器及其制備方法,其中,Ge光電探測器包括熱源層,進一步的還包括導熱層;從而通過具有高阻值的熱源層作為熱源,以升高Ge吸收層的溫度,使得Ge吸收層的禁帶寬度降低,從而使得能量低于原Ge吸收層禁帶寬度的光子被吸收,以增大Ge吸收層的吸收系數(shù),實現(xiàn)Ge光電探測器探測范圍的延伸,以擴大應(yīng)用范圍,以及通過位于Ge吸收層與熱源層之間的具有較高熱導率的導熱層,有效地將熱源層產(chǎn)生的熱源傳遞到Ge吸收層,從而有效調(diào)整Ge光電探測器的響應(yīng)度;因此,本發(fā)明可提供一種制備工藝簡單,且可有效提高Ge光電探測器在長波長條件下的吸收系數(shù),以擴大Ge光電探測器的探測范圍及應(yīng)用范圍。?? |
