一種新型真空蒸鍍機
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202023304257.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214168121U | 公開(公告)日 | 2021-09-10 |
申請公布號 | CN214168121U | 申請公布日 | 2021-09-10 |
分類號 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C23C14/52(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 薛蒙曉 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州佑倫真空設備科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 蘇州彰尚知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 曹恒濤 |
地址 | 215000江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)東旺路45號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)岢鲆环N新型真空蒸鍍機,包括:蒸鍍機本體、加熱燈結(jié)構(gòu)、鍍鍋結(jié)構(gòu)、水冷隔熱機構(gòu)、坩堝、離子源、控制機構(gòu)、和驅(qū)動機構(gòu),所述蒸鍍機本體內(nèi)部分為蒸鍍腔體和控制件腔體,加熱燈結(jié)構(gòu)、鍍鍋結(jié)構(gòu)、水冷隔熱機構(gòu)、坩堝、離子源和驅(qū)動機構(gòu)均設置于蒸鍍腔體內(nèi),控制機構(gòu)設置于控制件腔體內(nèi),所述驅(qū)動機構(gòu)包括馬達和抽真空泵組,蒸鍍腔體的一側(cè)面設有主閥腔,主閥腔的下部設有與主閥腔通過真空管連通的抽真空泵組,抽真空泵組位于蒸鍍機本體外部的支架上,蒸鍍腔體為中空的圓柱體或者為中空的橢圓柱體,鍍鍋結(jié)構(gòu)的傘架有3個,設置在蒸鍍腔體的腔體側(cè)面內(nèi)壁上的防著板,能夠與蒸鍍腔體的腔體側(cè)面內(nèi)壁掛住固定及拆卸。 |
