一種新型真空蒸鍍機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023304257.6 申請日 -
公開（公告）號 CN214168121U 公開（公告）日 2021-09-10
申請公布號 CN214168121U 申請公布日 2021-09-10
分類號 C23C14/56（2006.01）I;C23C14/30（2006.01）I;C23C14/52（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 薛蒙曉 申請（專利權(quán)）人 蘇州佑倫真空設(shè)備科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州彰尚知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 曹恒濤
地址 215000江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)東旺路45號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)岢鲆环N新型真空蒸鍍機(jī)，包括：蒸鍍機(jī)本體、加熱燈結(jié)構(gòu)、鍍鍋結(jié)構(gòu)、水冷隔熱機(jī)構(gòu)、坩堝、離子源、控制機(jī)構(gòu)、和驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述蒸鍍機(jī)本體內(nèi)部分為蒸鍍腔體和控制件腔體，加熱燈結(jié)構(gòu)、鍍鍋結(jié)構(gòu)、水冷隔熱機(jī)構(gòu)、坩堝、離子源和驅(qū)動機(jī)構(gòu)均設(shè)置于蒸鍍腔體內(nèi)，控制機(jī)構(gòu)設(shè)置于控制件腔體內(nèi)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括馬達(dá)和抽真空泵組，蒸鍍腔體的一側(cè)面設(shè)有主閥腔，主閥腔的下部設(shè)有與主閥腔通過真空管連通的抽真空泵組，抽真空泵組位于蒸鍍機(jī)本體外部的支架上，蒸鍍腔體為中空的圓柱體或者為中空的橢圓柱體，鍍鍋結(jié)構(gòu)的傘架有3個(gè)，設(shè)置在蒸鍍腔體的腔體側(cè)面內(nèi)壁上的防著板，能夠與蒸鍍腔體的腔體側(cè)面內(nèi)壁掛住固定及拆卸。