真空鍍膜機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920029662.X 申請日 -
公開（公告）號 CN209636325U 公開（公告）日 2019-11-15
申請公布號 CN209636325U 申請公布日 2019-11-15
分類號 C23F17/00;C23C8/38;C23C14/32;C23C14/16 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱國朝;袁安素 申請（專利權(quán)）人 納獅新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 納獅新材料（浙江）有限公司;納獅新材料有限公司
地址 314200浙江省嘉興市平湖市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)興平二路1661號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本揭露涉及一種真空鍍膜機(jī)。一種真空鍍膜機(jī)，包括：腔體；真空抽氣裝置用于使腔體內(nèi)形成真空環(huán)境；工件架設(shè)置于腔體內(nèi)以用于承載待處理模具；驅(qū)動裝置用于驅(qū)動工件架轉(zhuǎn)動；加熱器設(shè)置于腔體內(nèi)且與腔體絕緣并對待處理模具加熱；一或多個矩形多弧陰極離子源設(shè)置于腔體內(nèi)，矩形多弧陰極離子源包括陰極座體和靶材，陰極座體與腔體絕緣，靶材設(shè)置于陰極座體內(nèi)表面；陽極盤部分設(shè)置于腔體內(nèi)且與腔體絕緣；空心陰極離子源與陽極盤相對應(yīng)且部分設(shè)置于腔體內(nèi)；空心陰極電源，其中陽極盤與空心陰極電源的陽極電連接，空心陰極離子源與空心陰極電源的陰極電連接；空心陰極電源使陽極盤和空心陰極離子源之間產(chǎn)生電子和電場。