曝光設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120627977.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214474415U 公開（公告）日 2021-10-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN214474415U 申請(qǐng)公布日 2021-10-22
分類號(hào) G03F7/20 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 黃國勇;司繼偉;杜武兵 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市路維光電股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 黃廣龍
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)朗山路16號(hào)華瀚創(chuàng)新園辦公樓D座102
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開了一種曝光設(shè)備，屬于掩膜版制造技術(shù)領(lǐng)域。曝光設(shè)備，包括：機(jī)體；工件放置板，所述工件放置板可從所述機(jī)體外部滑動(dòng)至所述機(jī)體內(nèi)部，所述工件放置板用于放置掩膜版；紫外線燈板，所述紫外線燈板位于所述機(jī)體內(nèi)部，所述紫外線燈板用于照射所述工件放置板上的掩膜版。本申請(qǐng)的曝光設(shè)備能夠?qū)ρ谀ぐ孢M(jìn)行紫外線光照射，并且結(jié)構(gòu)簡單，易于實(shí)施，操作方便，能夠快速取放掩膜版，生產(chǎn)效率高。