掩膜版脫膜去膠方法、制作方法及掩膜版

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110326898.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113176703A 公開（公告）日 2021-07-27
申請公布號 CN113176703A 申請公布日 2021-07-27
分類號 G03F1/82 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 黃國勇;司繼偉;杜武兵 申請（專利權(quán)）人 深圳市路維光電股份有限公司
代理機構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 黃廣龍
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)朗山路16號華瀚創(chuàng)新園辦公樓D座102
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種掩膜版脫膜去膠方法、制作方法及掩膜版，屬于掩膜版制作技術(shù)領(lǐng)域。掩膜版脫膜去膠方法，包括：對掩膜版半成品進行曝光，使掩膜版半成品上的殘留光阻層進行光耦合反應(yīng)；將進行光耦合反應(yīng)后的掩膜版半成品與顯影液進行反應(yīng)，去除掩膜版半成品上的殘留光阻層。本申請的掩膜版脫膜去膠方法，對掩膜版半成品進行曝光，使掩膜版半成品易于與顯影液反應(yīng)，摒棄了用H2SO4與H2O2混合進行脫膜的方法，不會對掩膜版造成損傷，延長了掩膜版的使用壽命，并且人員操作安全；不需使用自動清洗機進行費時費力的清洗，工序耗時短，生產(chǎn)效率高，操作方便。