一種卷對(duì)卷雙面數(shù)字化激光直寫曝光機(jī)及曝光對(duì)位方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110763479.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113589656A 公開（公告）日 2021-11-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN113589656A 申請(qǐng)公布日 2021-11-02
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I;G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 白國(guó)梁;梅文輝;汪孝軍;羅覃東;洪俊輝;麻秀芝 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中山新諾科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 伍傳松
地址 528400廣東省中山市火炬開發(fā)區(qū)明珠路3號(hào)之一
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種卷對(duì)卷雙面數(shù)字化激光直寫曝光機(jī)及曝光對(duì)位方法，方法包括：首次曝光時(shí)：標(biāo)定三組對(duì)位相機(jī)的位置；捕捉曝光卷料邊緣并確定三組標(biāo)記點(diǎn)，通過(guò)三組標(biāo)記點(diǎn)的坐標(biāo)獲取偏移角度和曝光區(qū)域；根據(jù)偏移角度和曝光區(qū)域進(jìn)行曝光；標(biāo)記兩顆Mark點(diǎn)；第二次曝光時(shí)：重新標(biāo)定三組對(duì)位相機(jī)的位置；捕捉上一次曝光標(biāo)記的兩顆Mark點(diǎn)并進(jìn)行校對(duì)；捕捉曝光卷料其中一側(cè)邊的邊緣并確定兩組標(biāo)記點(diǎn)，通過(guò)兩組標(biāo)記點(diǎn)和兩顆Mark點(diǎn)的坐標(biāo)獲取偏移角度和曝光區(qū)域；比較偏移角度與可調(diào)角度和極限角度以確定曝光圖形的偏轉(zhuǎn)角度；根據(jù)偏轉(zhuǎn)角度和曝光區(qū)域進(jìn)行曝光操作；標(biāo)記新的兩組Mark點(diǎn)；后續(xù)曝光時(shí)重復(fù)第二次曝光時(shí)的步驟。本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)對(duì)曝光卷料進(jìn)行精確連續(xù)曝光。