一種GaN基發(fā)光二極管及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200910194799.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102005512A | 公開(公告)日 | 2011-04-06 |
申請公布號 | CN102005512A | 申請公布日 | 2011-04-06 |
分類號 | H01L33/00(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李剛;劉慰華;丁成;張義穎 | 申請(專利權(quán))人 | 揚(yáng)州隆耀光電科技發(fā)展有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海市華誠律師事務(wù)所 | 代理人 | 上海藍(lán)寶光電材料有限公司 |
地址 | 201616 上海市松江區(qū)文俊路2號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種GaN基發(fā)光二極管及其制造方法,其中,這種GaN基發(fā)光二極管的制造方法包括:在襯底上依次形成本征氮化鎵層、n型氮化鎵層、n型氮化鎵銦層、發(fā)光層、p型氮化鎵鋁層和第一p型氮化鎵層,該方法還包括:在第一p型氮化鎵層上形成異質(zhì)預(yù)處理層;和在異質(zhì)預(yù)處理層上形成第二p型氮化鎵層。 |
