提高Ⅲ族氮化物發(fā)光效率的LED量子阱結(jié)構(gòu)及其生長(zhǎng)方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200810124467.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN101355127B | 公開(公告)日 | 2010-11-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN101355127B | 申請(qǐng)公布日 | 2010-11-10 |
分類號(hào) | H01L33/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 謝自力;張榮;韓平;修向前;陳鵬;陸海;劉斌;顧書林;施毅;鄭有炓 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 揚(yáng)州隆耀光電科技發(fā)展有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京天翼專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 南京大學(xué) |
地址 | 210093 江蘇省南京市漢口路22號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種提高III族氮化物L(fēng)ED發(fā)光效率的量子阱結(jié)構(gòu),包括藍(lán)寶石襯底層(6),緩沖層(5),過渡層(4),N型導(dǎo)電層(3),量子阱結(jié)構(gòu)層(2),P型導(dǎo)電層(1)以及電極層(7);襯底層(6)上依次為GaN構(gòu)成的緩沖層(5),GaN構(gòu)成的過渡層(4),N型GaN構(gòu)成的N型導(dǎo)電層(3),InGaN/AlGaInN交替構(gòu)成的量子阱結(jié)構(gòu)層(2),P型GaN構(gòu)成的P型導(dǎo)電層(1)以及電極層(7)。量子阱結(jié)構(gòu)層(2)是5-10個(gè)周期且層厚分別為5-20nm/15-40nm的InGaN/AlGaInN量子阱結(jié)構(gòu)層。 |
