航天衛(wèi)星光學(xué)和機械測量基準(zhǔn)統(tǒng)一精測設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022083766.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212158611U | 公開(公告)日 | 2020-12-15 |
申請公布號 | CN212158611U | 申請公布日 | 2020-12-15 |
分類號 | G01C15/00 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 朱云飛;許美娟;曾志敏 | 申請(專利權(quán))人 | 上海格思信息技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海韌辰專利代理有限公司 | 代理人 | 于露萍 |
地址 | 201203 上海市浦東新區(qū)環(huán)湖西二路888號C樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型屬于航天技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種可應(yīng)用于衛(wèi)星光學(xué)和機械測量基準(zhǔn)的統(tǒng)一精測設(shè)備。航天衛(wèi)星光學(xué)和機械測量基準(zhǔn)統(tǒng)一精測設(shè)備,包括底座,底座上設(shè)有測量環(huán),測量環(huán)的外圓周面上均布有四塊結(jié)構(gòu)塊,其中一塊結(jié)構(gòu)塊上設(shè)有立方鏡;測量環(huán)的上表面為主基準(zhǔn)M面,測量環(huán)側(cè)邊設(shè)有側(cè)向基準(zhǔn)N面,立方鏡兩個鏡面的法線與主基準(zhǔn)M面、側(cè)向基準(zhǔn)N面之間為垂直或平行。本實用新型適用于光學(xué)基準(zhǔn)與機械基準(zhǔn)同時使用的情況,涉及范圍廣,每顆衛(wèi)星的總裝過程都可以采納,非常實用,意義甚遠(yuǎn)。 |
