一種SOI橫向恒流二極管及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910873979.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110491889A | 公開(公告)日 | 2019-11-22 |
申請公布號 | CN110491889A | 申請公布日 | 2019-11-22 |
分類號 | H01L27/12(2006.01); H01L29/06(2006.01); H01L29/861(2006.01); H01L21/329(2006.01) | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 喬明; 何林蓉; 鄧琪 | 申請(專利權)人 | 成都矽能科技有限公司 |
代理機構 | 成都點睛專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 葛啟函 |
地址 | 610093 四川省成都市自由貿(mào)易試驗區(qū)成都高新區(qū)天府大道中段1366號2棟9樓12-18號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種SOI橫向恒流二極管及其制造方法,屬于半導體功率器件技術領域。所述橫向恒流二極管由多個結構相同的元胞叉指連接形成,所述元胞包括襯底、埋氧層、第一導電類型輕摻雜硅、第二導電類型擴散阱區(qū)、第一導電類型溝道注入?yún)^(qū)、第二導電類型重摻雜區(qū)、第一重摻雜區(qū)、第二重摻雜區(qū)、氧化介質(zhì)層、金屬陽極和金屬陰極,所述第一重摻雜區(qū)和所述第二重摻雜區(qū)均為第一導電類型。本發(fā)明恒流二極管采用SOI技術,可有效防止集成系統(tǒng)中襯底漏電流帶來的不利影響。 |
