一種清洗拋光墊的裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202123335737.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN216883385U | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-07-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216883385U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-05 |
| 分類(lèi)號(hào) | B24B53/017（2012.01）I;B24B37/08（2012.01）I | 分類(lèi) | 磨削；拋光; |
| 發(fā)明人 | 崔世勛 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 西安奕斯偉硅片技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 西安維英格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 710065陜西省西安市高新區(qū)西灃南路1888號(hào)1-3-029室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種清洗拋光墊的裝置；該裝置包括：高壓清洗臂，所述高壓清洗臂具有固定端和活動(dòng)端；沿所述高壓清洗臂的活動(dòng)端至固定端的方向設(shè)置多個(gè)能夠同時(shí)朝向所述雙面拋光設(shè)備的上、下拋光墊噴射高壓去離子水DIW的高壓清洗噴頭對(duì)；其中，所述高壓清洗臂的活動(dòng)端可按照與所述雙面拋光設(shè)備的上、下定盤(pán)垂直的方向進(jìn)入上下定盤(pán)之間的空間；所述多個(gè)高壓清洗噴頭對(duì)均同時(shí)朝所述雙面拋光設(shè)備的上、下拋光墊噴射高壓DIW，且所述多個(gè)高壓清洗噴頭對(duì)的總的清洗區(qū)域范圍能夠覆蓋所述上、下拋光墊的徑向半徑區(qū)域；以及，每個(gè)高壓清洗噴頭對(duì)的清洗區(qū)域范圍與相鄰的高壓清洗噴頭對(duì)的清洗區(qū)域范圍有重合部分。 |
