一種CVD工作臺旋轉(zhuǎn)裝置及CVD裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210382788.1 申請日 -
公開（公告）號 CN114686859A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114686859A 申請公布日 2022-07-01
分類號 C23C16/458（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孫利;朱佰喜;薛抗美;蔣彪;楊偉峰 申請（專利權(quán)）人 廣州志橙半導體有限公司
代理機構(gòu) 北京中和立達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 510700廣東省廣州市黃埔區(qū)（中新廣州知識城）億創(chuàng)街1號406房之337（僅限辦公）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種CVD工作臺旋轉(zhuǎn)裝置及CVD裝置，CVD工作臺旋轉(zhuǎn)裝置包括：旋轉(zhuǎn)工作臺，所述旋轉(zhuǎn)工作臺包括：主動旋轉(zhuǎn)工作臺和從動旋轉(zhuǎn)工作臺，所述主動旋轉(zhuǎn)工作臺和從動旋轉(zhuǎn)工作臺外側(cè)均鑲嵌齒套，主動旋轉(zhuǎn)工作臺的齒套和從動旋轉(zhuǎn)工作臺的齒套嚙合；所述主動旋轉(zhuǎn)工作臺通過主傳動軸轉(zhuǎn)動連接在爐體內(nèi)，所述主動傳動軸與驅(qū)動機構(gòu)連接。用來解決制件相對于氣場固定不動的情況，放置在旋轉(zhuǎn)工作臺上的工裝治具架在旋轉(zhuǎn)過程中充當了扇葉的作用攪動了腔室內(nèi)的原有氣場，使其能更好的在腔體內(nèi)行成一個相對穩(wěn)定擴散的氣場，制件在氣場內(nèi)保持一定的速度旋轉(zhuǎn)與反應氣體充分接觸，從而使反應氣體得以有足夠的使用效率。