一種采用預(yù)處理籽晶生長碳化硅晶體的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110216502.8 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN113005519B 公開(公告)日 2022-07-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN113005519B 申請(qǐng)公布日 2022-07-01
分類號(hào) C30B29/36(2006.01)I;C30B23/00(2006.01)I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 不公告發(fā)明人 申請(qǐng)(專利權(quán))人 哈爾濱科友半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)裝備與技術(shù)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 哈爾濱市偉晨專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 -
地址 150000黑龍江省哈爾濱市南崗區(qū)哈西大街與學(xué)府四道街交匯處第40棟-1-2層12號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種采用預(yù)處理籽晶生長碳化硅晶體的方法,屬于碳化硅晶體制備技術(shù)領(lǐng)域。為解決現(xiàn)有籽晶預(yù)處理方法不能提供長期穩(wěn)定保護(hù)而使制備的碳化硅晶體產(chǎn)生缺陷的問題,本發(fā)明提供了一種采用預(yù)處理籽晶生長碳化硅晶體的方法,先用氫氟酸浸泡碳化硅籽晶,再將碳化硅籽晶放入100℃去離子水中加熱得到氫鈍化的碳化硅籽晶;在氫鈍化的碳化硅籽晶的生長面覆蓋一層保護(hù)膜,得到預(yù)處理籽晶;最后采用PVT法以所得預(yù)處理籽晶為基礎(chǔ)制備碳化硅晶體。本發(fā)明采用氫鈍化與保護(hù)膜相結(jié)合的預(yù)處理方式,能夠長期維持籽晶表面的低氧雜質(zhì)含量狀態(tài),解決了氧雜質(zhì)對(duì)半絕緣型碳化硅晶片制備的阻礙,提高了碳化硅晶體的良品率。