一種硬掩膜單體和組合物及圖案形成方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910387089.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110041286B | 公開(公告)日 | 2021-03-19 |
申請公布號 | CN110041286B | 申請公布日 | 2021-03-19 |
分類號 | C07D265/16(2006.01)I;G03F1/76(2012.01)I;C07D265/12(2006.01)I | 分類 | 有機(jī)化學(xué)〔2〕; |
發(fā)明人 | 王靜;肖楠 | 申請(專利權(quán))人 | 福建泓光半導(dǎo)體材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 賴秀華 |
地址 | 363005福建省漳州市高新區(qū)九湖鎮(zhèn)林前村林前773號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于光刻領(lǐng)域,公開了一種硬掩膜單體和組合物及圖案形成方法。所述硬掩膜組合物含有式(1)所示的硬掩膜單體、聚合物以及溶劑,式(1)中,Ar1和Ar2各自獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為6?30的芳基,m為1?4的整數(shù)。本發(fā)明提供的硬掩膜組合物兼具有優(yōu)異的耐刻蝕性能、間隙填充特征和平坦化特征。?? |
