一種基于物理氣相沉積的涂層設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021220672.0 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212741515U | 公開（公告）日 | 2021-03-19 |
| 申請公布號(hào) | CN212741515U | 申請公布日 | 2021-03-19 |
| 分類號(hào) | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 孟進(jìn) | 申請（專利權(quán)）人 | 上海暢橋真空系統(tǒng)制造有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京沁優(yōu)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 方仕杰 |
| 地址 | 200000上海市金山區(qū)山富東路365號(hào)4幢 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種基于物理氣相沉積的涂層設(shè)備，屬于物理氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域。該基于物理氣相沉積的涂層設(shè)備包括真空鍍膜腔、發(fā)射源、承載架和翻料組件。所述發(fā)射源設(shè)置于所述真空鍍膜腔內(nèi)部頂端，所述真空鍍膜腔內(nèi)部安裝有電動(dòng)滑臺(tái)，所述承載架設(shè)置于所述發(fā)射源下方，且一側(cè)與所述電動(dòng)滑臺(tái)的移動(dòng)端固定連接，所述翻料組件包括夾具和驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述夾具轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于所述承載架表面。本實(shí)用新型通過驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)待鍍膜工件轉(zhuǎn)動(dòng)，提高待鍍膜工件的鍍膜范圍，可使工件表面的鍍膜更加均勻，可提高鍍膜效果，此外，通過電動(dòng)滑臺(tái)，可調(diào)節(jié)待鍍膜工件的位置，可提高待鍍膜工件鍍膜的穩(wěn)定性，進(jìn)而提高鍍膜效果。?? |
