觸控裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201520486654.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN204904291U | 公開(公告)日 | 2015-12-23 |
申請公布號 | CN204904291U | 申請公布日 | 2015-12-23 |
分類號 | G06K9/00(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I | 分類 | 計算;推算;計數(shù); |
發(fā)明人 | 張恪維;孟紅偉;程炮;何偉慶 | 申請(專利權(quán))人 | 瑞世達(dá)科技(廈門)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 361009 福建省廈門火炬高新區(qū)信息光電園坂尚路199號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提供一種觸控裝置,包含一承載結(jié)構(gòu)及一觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)。承載結(jié)構(gòu)包括一薄膜層以及一第一介電結(jié)構(gòu)。第一介電結(jié)構(gòu)由濺鍍技術(shù)制作,并具有相互疊置的一低折射率層及一高折射率層。低折射率層設(shè)置于該薄膜層,并具有小于該高折射率層的折射率;高折射率層設(shè)置于低折射率層,并與薄膜層分別位于低折射率層的兩相反側(cè)。觸控感應(yīng)結(jié)構(gòu)設(shè)置于第一介電結(jié)構(gòu),并與該薄膜層位于該第一介電結(jié)構(gòu)的兩相反側(cè)。借此提升其膜厚均勻性及附著性,提升薄膜之光學(xué)效能。 |
