激光光刻機(jī)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201110115575.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN102759863B 公開(kāi)（公告）日 2015-12-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN102759863B 申請(qǐng)公布日 2015-12-02
分類(lèi)號(hào) G03F7/20(2006.01)I;G02B26/10(2006.01)I 分類(lèi) 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 陳猷仁;林坤榮 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 瑞世達(dá)科技（廈門(mén)）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 361009 福建省廈門(mén)市火炬高新區(qū)信息光電園坂尚路199號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種膜層蝕刻方法及其激光光刻機(jī)，尤其是應(yīng)用于大尺寸觸控面板采用激光蝕刻的表面保護(hù)層處理方法。本發(fā)明的膜層蝕刻方法包括以下步驟：在基板上形成一膜層；采用激光光束對(duì)所述膜層的預(yù)定區(qū)域進(jìn)行燒蝕，形成圖案化膜層。本發(fā)明的激光光刻機(jī)，包括激光器、聚焦透鏡組、控制器、驅(qū)動(dòng)電機(jī)和定位平臺(tái)，所述激光器發(fā)出激光光束，該激光光束經(jīng)過(guò)所述聚焦透鏡組投射于所述定位平臺(tái)上的工件表面。本發(fā)明是采用激光直接蝕刻于膜層表面形成所需圖案的方法，可應(yīng)用于大尺寸觸控面板的加工，無(wú)需光罩，實(shí)現(xiàn)采用快速單步圖案化制程取代網(wǎng)版印刷制程或者是多步有光罩的光刻制程，降低生產(chǎn)成本。