一種AMOLED用的掩膜版制作方法及掩膜版

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110157006.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112965334A 公開（公告）日 2021-06-15
申請公布號 CN112965334A 申請公布日 2021-06-15
分類號 G03F1/00（2012.01）I;G03F1/46（2012.01）I;G03F1/68（2012.01）I;H01L51/56（2006.01）I;H01L27/32（2006.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 錢超;楊波;洪明;王有明 申請（專利權）人 江蘇高光半導體材料有限公司
代理機構 南京行高知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 肖念
地址 212400江蘇省鎮(zhèn)江市句容經(jīng)濟開發(fā)區(qū)容寧創(chuàng)業(yè)園2#
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于掩膜版技術領域，尤其是涉及一種AMOLED用的掩膜版制作方法及掩膜版，包括掩膜版基板，掩膜版基板的一端板面上設有圖形塊，掩膜版基板與圖形塊之間設有透明板，透明板與圖形塊和掩膜版基板均固定連接，掩膜版基板背離透明板的一側設有涂層，掩膜版基板中嵌合有多道與圖形塊相對應的金屬條，金屬條的上端貫穿涂層設置，多條金屬條相互連接，且其兩端分別有端頭平行伸出掩膜版基板的斷層外，通過端頭可與外部電源的正負極相連接。優(yōu)點在于：可通過對多余散射光線進行吸收防反射的方式來使得光源的光線更好的配合圖形來進行照射作用，從而提高了掩膜版作業(yè)的質(zhì)量。