高精度多臺階微透鏡陣列的制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410519408.X 申請日 -
公開（公告）號 CN104237984B 公開（公告）日 2016-11-16
申請公布號 CN104237984B 申請公布日 2016-11-16
分類號 G02B3/00(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 侯治錦;司俊杰;陳洪許;呂衍秋;王巍;韓德寬 申請（專利權(quán)）人 中航凱邁（上海）紅外科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 鄭州睿信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 中國空空導(dǎo)彈研究院
地址 201306 上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)天驕路336號1幢A206室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種高精度多臺階微透鏡陣列的制作方法,該方法首先在基底上等間隔制作出初始深度的臺階；然后再在各初始深度的臺階上、以及各臺階之間的間隔上，進(jìn)行刻蝕，形成設(shè)定深度的臺階，本方法不但對操作者和操作設(shè)備的制作精度要求相對較低，成品率較高，而且可以省去大量的刻蝕時間，具有較大的經(jīng)濟(jì)效益。