一種多臺(tái)階微透鏡制作方法以及光學(xué)元件臺(tái)階制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201410321487.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN104330840B | 公開(kāi)(公告)日 | 2016-05-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN104330840B | 申請(qǐng)公布日 | 2016-05-04 |
分類(lèi)號(hào) | G02B3/00(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 分類(lèi) | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 侯治錦;司俊杰;韓德寬;陳洪許;呂衍秋;丁嘉欣;張向鋒;姚官生;王理文;楊雪峰;耿東鋒 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 中航凱邁(上海)紅外科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 鄭州睿信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 胡泳棋 |
地址 | 201306 上海市浦東新區(qū)中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)臨港新片區(qū)天驕路336號(hào)1幢A206室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種多臺(tái)階微透鏡制作方法以及光學(xué)元件臺(tái)階制作方法,該方法通過(guò)僅有的一次掩膜光刻形成微透鏡最內(nèi)層環(huán)帶,然后通過(guò)負(fù)性光刻膠背面曝光顯影用作掩膜層,再經(jīng)腐蝕、背面曝光顯影,刻蝕形成基底的圖形,然后進(jìn)行循環(huán)得到按次序從內(nèi)到外逐次得到環(huán)帶圖形;還提出了一種制作光學(xué)元件臺(tái)階的制作方法。從根本上避免了傳統(tǒng)套刻方法制作微透鏡制作因掩模版對(duì)準(zhǔn)、光刻、刻蝕等工序中帶來(lái)的不可避免的誤差,減少了制作過(guò)程中的工藝步驟,降低了難度,滿(mǎn)足了微透鏡制作過(guò)程中高精度要求,有效的保證和提高了微透鏡衍射效益等光學(xué)性能。 |
