一種多臺階微透鏡制作方法以及光學元件臺階制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201410321487.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104330840B | 公開(公告)日 | 2016-05-04 |
申請公布號 | CN104330840B | 申請公布日 | 2016-05-04 |
分類號 | G02B3/00(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 分類 | 光學; |
發(fā)明人 | 侯治錦;司俊杰;韓德寬;陳洪許;呂衍秋;丁嘉欣;張向鋒;姚官生;王理文;楊雪峰;耿東鋒 | 申請(專利權(quán))人 | 中航凱邁(上海)紅外科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 鄭州睿信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 胡泳棋 |
地址 | 201306 上海市浦東新區(qū)中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)天驕路336號1幢A206室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種多臺階微透鏡制作方法以及光學元件臺階制作方法,該方法通過僅有的一次掩膜光刻形成微透鏡最內(nèi)層環(huán)帶,然后通過負性光刻膠背面曝光顯影用作掩膜層,再經(jīng)腐蝕、背面曝光顯影,刻蝕形成基底的圖形,然后進行循環(huán)得到按次序從內(nèi)到外逐次得到環(huán)帶圖形;還提出了一種制作光學元件臺階的制作方法。從根本上避免了傳統(tǒng)套刻方法制作微透鏡制作因掩模版對準、光刻、刻蝕等工序中帶來的不可避免的誤差,減少了制作過程中的工藝步驟,降低了難度,滿足了微透鏡制作過程中高精度要求,有效的保證和提高了微透鏡衍射效益等光學性能。 |
