一種提高生產(chǎn)良率的支撐架

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201820910055.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN208631738U 公開(kāi)（公告）日 2019-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN208631738U 申請(qǐng)公布日 2019-03-22
分類號(hào) B65H18/10（2006.01）I; B65H18/02（2006.01）I 分類 輸送；包裝；貯存；搬運(yùn)薄的或細(xì)絲狀材料;
發(fā)明人 劉光雄; 蔣雪春 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 創(chuàng)聯(lián)勝光電（廣東）有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 518101 廣東省深圳市光明新區(qū)公明街道田寮社區(qū)第六工業(yè)區(qū)第七棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型適用于光學(xué)膜片技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種提高生產(chǎn)良率的支撐架，包括支架組件和除塵組件，所述支架組件包括底座、支撐架、轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)和滾筒，所述支撐架固定連接于所述底座，所述支撐架位于所述底座的上表面，所述轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述支撐架，所述轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)位于所述支撐架的外表面；所述離子風(fēng)棒可產(chǎn)生大量的帶有正、負(fù)電荷的氣團(tuán)，可以將經(jīng)過(guò)它離子輻射區(qū)內(nèi)的物體上所帶有的電荷中和掉，當(dāng)光學(xué)基膜表面所帶為負(fù)電荷時(shí)，它會(huì)吸引輻射區(qū)內(nèi)的正電荷，反之亦然，達(dá)到消除靜電的目的，進(jìn)而去除對(duì)大量的異物粉屑、碎屑、毛絲等對(duì)光學(xué)基膜的吸附，從而避免造成光學(xué)基膜上有異物及白印產(chǎn)生畫面不良的情況。