一種高性能封裝輻射吸收結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110797645.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113451784A | 公開(公告)日 | 2021-09-28 |
申請公布號 | CN113451784A | 申請公布日 | 2021-09-28 |
分類號 | H01Q17/00(2006.01)I;H01Q15/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李爾平;樊宇迪;李天武 | 申請(專利權(quán))人 | 海寧利伊電子科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 杭州求是專利事務所有限公司 | 代理人 | 林超 |
地址 | 314400浙江省嘉興市海寧市海寧經(jīng)濟開發(fā)區(qū)雙富路28號D座5樓509室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種高性能封裝輻射吸收結(jié)構(gòu)。包含多個緊密排列的周期單元結(jié)構(gòu),每個周期單元結(jié)構(gòu)主要由一個諧振單元、一層有耗介質(zhì)層和一層金屬背板依次層疊構(gòu)成,諧振層與金屬背板分別位于有耗介質(zhì)層的兩側(cè);所述周期單元結(jié)構(gòu)包括頂層諧振單元、有耗介質(zhì)層和底層金屬背板;諧振單元主要由一層介質(zhì)層和兩層金屬層以及連接兩層金屬層之間的金屬過孔組成,其中兩層金屬層分別貼于介質(zhì)層兩表面;金屬過孔穿過介質(zhì)層將兩層金屬層電連接。本發(fā)明適用于抑制封裝器件在特定頻點輻射的吸收,具有極佳的角度穩(wěn)定性,在設計頻點具有良好的輻射吸收能力,從而增加反射損耗,提升封裝器件EMI收益。 |
