一種曲軸箱加工用工作臺(tái)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202021091764.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN213259348U 公開(kāi)(公告)日 2021-05-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN213259348U 申請(qǐng)公布日 2021-05-25
分類號(hào) B25H1/10(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 李瑞林;袁新宇;馮冬;徐新元 申請(qǐng)(專利權(quán))人 蕪湖瑞和機(jī)電有限公司
代理機(jī)構(gòu) 合肥市長(zhǎng)遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 張艷萍
地址 241100安徽省蕪湖市蕪湖縣機(jī)械工業(yè)園東區(qū)2666號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種曲軸箱加工用工作臺(tái),包括:支撐平臺(tái)和導(dǎo)向桿,其中:支撐平臺(tái)包括上下布置并在二者之間預(yù)料間距的上平臺(tái)和下平臺(tái);上平臺(tái)上設(shè)有第一電磁塊和通口;下平臺(tái)上且位于通口的下方設(shè)有第二電磁塊;導(dǎo)向桿上設(shè)有第一吸附塊,導(dǎo)向桿設(shè)有多個(gè),各導(dǎo)向桿一一對(duì)應(yīng)的插入各通口內(nèi),每個(gè)導(dǎo)向桿靠近第一電磁塊的一側(cè)且位于上平臺(tái)的上方均設(shè)有與其固定的上壓塊和水平布置在上壓塊下方的導(dǎo)軌,導(dǎo)軌上設(shè)有與其滑動(dòng)配合的側(cè)壓塊,側(cè)壓塊上設(shè)有可被磁力吸附的第二吸附塊。本實(shí)用新可有效提高工作效率。??