微流控芯片的微柱結(jié)構(gòu)制作方法及微柱結(jié)構(gòu)圖案生成方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810331430.X 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN108545693B 公開(公告)日 2018-09-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN108545693B 申請(qǐng)公布日 2018-09-18
分類號(hào) B81C1/00(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 王姍姍;張道森;梁帥 申請(qǐng)(專利權(quán))人 廣東順德墨賽生物科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 廣東順德墨賽生物科技有限公司
地址 528300廣東省佛山市順德區(qū)北滘鎮(zhèn)設(shè)計(jì)城居委會(huì)三樂路北1號(hào)設(shè)計(jì)城二期研究院大樓7樓702室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及一種微流控芯片的微柱結(jié)構(gòu)制作方法及微柱結(jié)構(gòu)圖案生成方法,其中,微流控芯片的微柱結(jié)構(gòu)制作方法,包括:將掩模板的空白面緊貼放置在基片的負(fù)性光刻膠上,并曝光負(fù)性光刻膠,得到待制作微流控芯片上各微柱對(duì)應(yīng)的倒圓錐形區(qū)域;倒圓錐形區(qū)域?yàn)樨?fù)性光刻膠的未感光區(qū);掩模板為印制有待制作微流控芯片的微柱結(jié)構(gòu)圖案的掩模板;對(duì)曝光后的負(fù)性光刻膠進(jìn)行顯影,洗脫各倒圓錐形區(qū)域;將顯影后的負(fù)性光刻膠加熱堅(jiān)模,得到待制作微流控芯片的微柱結(jié)構(gòu)的模具。本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)在同一微流控芯片上加工制作多種高度的微柱,制作簡單,成本低,且得到的微柱結(jié)構(gòu)陣列精度高。??