一種制作電熱式MEMS驅(qū)動(dòng)臂的方法及電熱式MEMS驅(qū)動(dòng)臂

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911408258.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113120848A 公開(kāi)（公告）日 2021-07-16
申請(qǐng)公布號(hào) CN113120848A 申請(qǐng)公布日 2021-07-16
分類(lèi)號(hào) B81B3/00（2006.01）I;B81B7/02（2006.01）I;B81C1/00（2006.01）I 分類(lèi) 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕;
發(fā)明人 王鵬;黃兆興;謝會(huì)開(kāi) 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 無(wú)錫微奧科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無(wú)錫市朗高知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙華
地址 214000江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)菱湖大道200號(hào)中國(guó)傳感網(wǎng)國(guó)際創(chuàng)新園C棟輔樓302室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種制作電熱式MEMS驅(qū)動(dòng)臂的方法，包括如下步驟：1）、選擇高阻硅作為襯底；2）、在襯底上進(jìn)行圖形化，形成預(yù)先設(shè)計(jì)的導(dǎo)電回路圖形的掩模；3）、使用注入法或擴(kuò)散法對(duì)襯底進(jìn)行摻雜，形成導(dǎo)電回路，該導(dǎo)電回路作為加熱電阻層；4）、在加熱電阻層上制作絕緣材料作為絕緣層；5）、在絕緣層上制作高熱膨脹系數(shù)的材料作為第一結(jié)構(gòu)層；6）、刻蝕襯底的底部，留下設(shè)定厚度的高阻硅作為第二結(jié)構(gòu)層；7）、在襯底的上部按照預(yù)先設(shè)計(jì)的MEMS驅(qū)動(dòng)臂形狀進(jìn)行正面圖形化刻蝕；最終完成該電熱式MEMS驅(qū)動(dòng)臂的制作。優(yōu)點(diǎn)：硅既作為結(jié)構(gòu)層的同時(shí)，由作為加熱電阻層，免除了還要做加熱電阻層的麻煩，簡(jiǎn)化了電熱式MEMS驅(qū)動(dòng)臂的加熱電阻層的工藝步驟，提供了效率。