空間光調(diào)制器及顯示設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121808230.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN215416190U | 公開(公告)日 | 2022-01-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN215416190U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-01-04 |
分類號(hào) | G02F1/1335(2006.01)I | 分類 | 光學(xué); |
發(fā)明人 | 談順毅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上?;巯k娮涌萍加邢薰?/a> |
代理機(jī)構(gòu) | 上海段和段律師事務(wù)所 | 代理人 | 李佳俊;郭國(guó)中 |
地址 | 200082上海市楊浦區(qū)國(guó)霞路458弄2號(hào)501室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種空間光調(diào)制器及顯示設(shè)備,所述空間光調(diào)制器的部分表面有周期性的遮光區(qū)域,所述周期性的遮光區(qū)域遮蔽像素點(diǎn)邊緣的布線區(qū)域和/或相鄰像素點(diǎn)的交界區(qū)域。本實(shí)用新型通過在ITO玻璃、TFT玻璃或晶圓表面制作周期性的遮光區(qū)域(屏蔽結(jié)構(gòu))來遮蔽未被調(diào)制以及調(diào)制不完整的光,從而降低雜光,提高器件調(diào)制質(zhì)量。 |
