鍍膜裝置及鍍膜方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201010160939.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN102234767A | 公開(kāi)(公告)日 | 2011-11-09 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102234767A | 申請(qǐng)公布日 | 2011-11-09 |
分類號(hào) | C23C14/34(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 王仲培 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 東莞市華歐泰電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 518109 廣東省深圳市寶安區(qū)龍華鎮(zhèn)油松第十工業(yè)區(qū)東環(huán)二路2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種鍍膜裝置,其包括過(guò)渡腔體、鍍膜腔體、閥門(mén)、多個(gè)料桿、第一料架、第二料架以及料桿轉(zhuǎn)移裝置。所述料桿轉(zhuǎn)移裝置設(shè)置于過(guò)渡腔體內(nèi)。所述閥門(mén)連接于所述過(guò)渡腔體和鍍膜腔體之間,用于在開(kāi)啟時(shí)連通過(guò)渡腔體和鍍膜腔體,并用于在關(guān)閉時(shí)隔離過(guò)渡腔體和鍍膜腔體。所述第一料架和第二料架均用于設(shè)置所述多個(gè)料桿。所述料桿轉(zhuǎn)移裝置包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、夾爪及擋板。所述夾爪用于將所述多個(gè)料桿自所述第一料架一一轉(zhuǎn)移至第二料架,或者用于將所述多個(gè)料桿自所述第二料架一一轉(zhuǎn)移至第一料架。所述擋板設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),并靠近所述夾爪,所述擋板用于將轉(zhuǎn)移過(guò)程中從料桿上脫落的工件從所述閥門(mén)處移除。本技術(shù)方案還提供一種鍍膜方法。 |
