HVPE密閉式手動加鎵裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202022168536.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN213327939U | 公開（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請公布號 | CN213327939U | 申請公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號 | C30B23/02（2006.01）I;C30B29/40（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C30B29/42（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 李枝旺;王亮 | 申請（專利權(quán)）人 | 鎵特半導(dǎo)體科技（銅陵）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 銅陵市嘉同知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 吳晨亮 |
| 地址 | 244000安徽省銅陵市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)天門山北道3139號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型公開了HVPE密閉式手動加鎵裝置，它包括：鎵容器（1）；鎵舟（2），所述鎵舟位于鎵容器下方；第一手動閥門（3），所述第一手動閥門連通于鎵容器底部；第二手動閥門（4），所述第二手動閥門分別與第一手動閥門和鎵舟連通；第一氣動閥（5），所述第一氣動閥一端接入在第一手動閥門和第二手動閥門之間，另一端與外界連通。本實用新型的有益效果是利用控制系統(tǒng)，實現(xiàn)密閉人工加鎵，能很好的去除加鎵裝置的空氣和加鎵過程中空氣的進(jìn)入。大大改善了因加鎵污染腔體的環(huán)境。更好地保證反應(yīng)腔反應(yīng)環(huán)境同時提高了產(chǎn)品的良率，減小了不必要的生產(chǎn)成本。而且所用裝置的結(jié)構(gòu)簡單消耗件少，更有效地降低生產(chǎn)成本。?? |
