一種真空鍍膜機膜厚均勻性精密調整裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201922486474.2 申請日 -
公開（公告）號 CN211848127U 公開（公告）日 2020-11-03
申請公布號 CN211848127U 申請公布日 2020-11-03
分類號 C23C14/54(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 蘇雄宇;陳憲緯;劉振波 申請（專利權）人 深圳海容高新材料科技有限公司
代理機構 荊門市森皓專利代理事務所（普通合伙） 代理人 深圳海容高新材料科技有限公司
地址 518000廣東省深圳市南山區(qū)粵海街道高新區(qū)社區(qū)高新南七道20號深圳國家工程實驗室大樓B903
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型屬于真空鍍膜機技術領域，尤其為一種真空鍍膜機膜厚均勻性精密調整裝置，包括底座，所述底座的頂部固定安裝有支撐座，所述支撐座的頂部連接有固定板，所述固定板的底部通過螺釘連接有磁控濺射靶片，所述支撐座的頂部通過螺釘固定連接有第一Z字板。通過在磁控濺射靶片與基片之間設計支撐座，支撐座安裝的限位調節(jié)機構將磁控濺射鍍膜的均勻性差別縮小，使用手輪配合絲桿對基片的鍍膜位置進行調整，基片鍍膜位置的變化抵消電場對電子運動軌跡造成的偏移，通過此裝置的機械方法調整，調整的同時沒有改變鍍膜工藝的氣體、電壓、電流等因素，穩(wěn)定可靠，并能做到很高的精度，加工簡便，成本低，適合推廣使用。??