一種真空鍍膜機(jī)膜厚均勻性精密調(diào)整裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201922486474.2 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211848127U | 公開（公告）日 | 2020-11-03 |
| 申請公布號 | CN211848127U | 申請公布日 | 2020-11-03 |
| 分類號 | C23C14/54(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 蘇雄宇;陳憲緯;劉振波 | 申請（專利權(quán)）人 | 深圳海容高新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 荊門市森皓專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 深圳海容高新材料科技有限公司 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市南山區(qū)粵海街道高新區(qū)社區(qū)高新南七道20號深圳國家工程實(shí)驗(yàn)室大樓B903 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型屬于真空鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，尤其為一種真空鍍膜機(jī)膜厚均勻性精密調(diào)整裝置，包括底座，所述底座的頂部固定安裝有支撐座，所述支撐座的頂部連接有固定板，所述固定板的底部通過螺釘連接有磁控濺射靶片，所述支撐座的頂部通過螺釘固定連接有第一Z字板。通過在磁控濺射靶片與基片之間設(shè)計(jì)支撐座，支撐座安裝的限位調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)將磁控濺射鍍膜的均勻性差別縮小，使用手輪配合絲桿對基片的鍍膜位置進(jìn)行調(diào)整，基片鍍膜位置的變化抵消電場對電子運(yùn)動(dòng)軌跡造成的偏移，通過此裝置的機(jī)械方法調(diào)整，調(diào)整的同時(shí)沒有改變鍍膜工藝的氣體、電壓、電流等因素，穩(wěn)定可靠，并能做到很高的精度，加工簡便，成本低，適合推廣使用。?? |
