一種連續(xù)性電漿納米膜沉積設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201821052733.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN208378995U 公開（公告）日 2019-01-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN208378995U 申請(qǐng)公布日 2019-01-15
分類號(hào) C23C14/56;C23C14/50 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉振波;霍錦輝;張向陽 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳海容高新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)科技園留學(xué)生創(chuàng)業(yè)大廈1期1304
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型為一種連續(xù)性電漿納米膜沉積設(shè)備，包括上下層結(jié)構(gòu)的機(jī)架、鍍膜裝置和傳輸裝置，其中傳輸裝置是由多個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)的傳動(dòng)滾筒，包括設(shè)置于多個(gè)鍍膜腔體內(nèi)的傳送機(jī)構(gòu)、設(shè)置于下層支撐架的回傳機(jī)構(gòu)、設(shè)置于機(jī)架前端的進(jìn)料升降機(jī)構(gòu)和設(shè)置于機(jī)架后端的出料升降機(jī)構(gòu)，每個(gè)鍍膜腔體中的每一組傳動(dòng)滾筒都是由獨(dú)立驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)來驅(qū)動(dòng)的，并且位于真空鍍膜室的傳動(dòng)滾筒設(shè)置在可360°自轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)盤構(gòu)件上，保證工件鍍膜的均勻性。